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研磨抛光中常见的抛光皮有哪些种类

发表时间: 2023-10-02 09:34:06

作者: 无锡泰源机器制造有限公司

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在我们实际研磨抛光过程中,研磨抛光主要讲的是化学机械抛光(CMP: Chemical Mechanical Polishing)。CMP 是化学的和机械的综合作

在我们实际研磨抛光过程中,研磨抛光主要讲的是化学机械抛光(CMP: Chemical Mechanical Polishing)。CMP 是化学的和机械的综合作用,在一定压力及抛光浆料存在下,在抛光液中的腐蚀介质作用下工件表面形成一层软化层,抛光液中的磨粒对工件上的软化层进行磨削,因而在被研磨的工件表面形成光洁表面。




抛光液中的腐蚀介质与被抛光表面材料发生了化学反应,生成很薄的剪切强度很低的化学反应膜,反应膜在磨粒磨削作用下被去处,从而露出新的表面,接着又继续反应生成新的反应膜,如此周而复始的进行,使表面逐渐被抛光修平,实现抛光的目的。

抛光皮的分类:

根据抛光皮磨料填充、材质、表面结构情况,共分为三大类

按磨料填充分为:无填充磨料和有填充磨料抛光皮

无填充磨料的抛光皮,在抛光过程中的相比较抛光工件光圈稳定。

有填充磨料的抛光皮,含氧化铈抛光皮和含氧化锆抛光皮。

氧化铈抛光皮:较能提高抛光速率;

氧化锆抛光皮:较能提高被抛光工件的光洁度

按材质的不同分为:不织布(无纺布)磨皮、发泡聚酯磨皮和阻尼布磨皮。



按表面结构分为:有开槽和不开槽的抛光皮;



抛光皮的开槽种类:



抛光皮的作用:

1.把抛光液有效均匀地输送到抛光皮的不同区域;

2.从被加工表面带走抛光过程中的残留物质、碎屑等,达到去除效果;

3.传递和承载加工去除过程中所需的机械载荷;

4.维持抛光皮表面的抛光液薄膜,以便化学反应充分进行;

5.保持抛光过程的平稳、表面不变形,以便获得较好的产品表面形貌。



抛光皮不同材质和制造工艺介绍:

1、不织布磨皮

薄状聚酯纤维层叠后,用针反复撞击使纤维结合在一起使其成为毛毡状,并把它浸在聚树脂或乳胶(SBR NBR等橡胶)中,然后切片,抛光,完成较终产品。



2、聚酯硬质磨皮

聚酯预聚物和硬化剂(增链剂)、发泡剂按照规定量混合后,注入定型容器中做成块状,然后通过切片机加工成较终片状磨皮。



3、阻尼布磨皮

聚酯树脂和发泡添加剂颜料(炭黑)等混合后放入水中凝固,干燥成薄膜状。然后通过抛光加工,粘上基材和双面胶得到较终产品。


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